306氯化(Hua)鉀鍍(Du)鋅工藝(Yi)說明書
一、 用途(Tu)及特(Te)性
1. 鍍層結晶細[Xi]緻,光亮範圍寬,突破舊的酸鋅[Xin]光亮劑組配(Pei)方式,突出分散能力和低電(Dian)流區光亮(Liang)豐滿度(Du)。
2. 鍍層柔軟,光亮度[Du]高,脆(Cui)性小,柔軟劑306-B沉積速度快(Kuai)并[Bing]有一定的除雜功[Gong]能,填平好,透亮的光澤适合滾鍍和挂(Gua)鍍(Du)。
3. 此産品使用的是耐鹽耐(Nai)高溫的[De]專用載體,在鍍(Du)液中濁點可達75~80℃。對[Dui]鐵雜[Za]質容忍度高,耐[Nai]鐵可(Ke)達到1g/L。
4. 對光亮度要求不高[Gao],并且(Qie)容易鈍化的(De)工件,可[Ke]單用柔軟劑(Ji)306-B劑[Ji]即可(Ke)達到[Dao]要求。
二、 溶液組成及操作條件
開缸成份 | 滾[Gun]鍍 | 挂鍍 | |
氯化鉀(電鍍級(Ji))g/L | 200~250 | 180~220 | |
氯化鋅(電鍍級)g/L | 45~55 | 55~65 | |
硼酸(工業級)g/L | 25~30 | 25~30 | |
306-A(光亮劑) g/L | 0.8~1.5 | 0.8~1.5 | |
306-B(柔軟劑(Ji)) g/L | 20~30 | 20~30 | |
pH值 | 5.8~6.2 | 5.8~6.2 | |
溫度℃ | 10~50 | 10~50 | |
Dk (A/dm2) | 0.5~0.8 | 1~2 | |
消耗(Hao)量306-A(光[Guang]亮劑) | 120~180ml/KAH | 100~150ml/KAH | |
306-B(柔軟[Ruan]劑) | 200~300ml/KAH | 200~300mlKAH |
三、開[Kai]缸步驟[Zhou]
1.清洗[Xi]幹(Gan)淨[Jing]的槽中加入1∕2的(De)水,加入所需量的氯化鉀,攪拌溶[Rong]解。
2.用熱水溶解所需量的硼酸[Suan]加入槽[Cao]中。
3.加入所(Suo)需量的氯(Lü)化鋅攪(Jiao)拌至完全溶[Rong]解。
4.加(Jia)入1g-2g/L的鋅粉、1g-2g/L的活性炭強烈攪拌半小時,靜[Jing]置[Zhi]1小時過濾至(Zhi)清。
5.加水至[Zhi]體積的4∕5,連續過濾并小電流處理6~8小時。
6.加入所需量的柔軟劑,攪[Jiao]拌均勻。光亮劑用鍍液(Ye)稀(Xi)釋2~3倍邊攪[Jiao]拌[Ban]邊加(Jia)入槽中。
7.調整鍍液的pH(10%的鹽(Yan)酸或氫氧化鈉)至工藝範圍(建議用上海三愛[Ai]思公司生産的5.4-7.0精密試紙)。
四、工(Gong)藝維護
1.平時維(Wei)護時(Shi),添加劑要勤加(Jia)少加。生産中306-B(柔軟劑(Ji))的帶出量和消(Xiao)耗量要大于306-A(光亮劑),建議306-A與[Yu]306-B平(Ping)時最佳添加(Jia)比例為(Wei)1:2,最佳添加量最好以(Yi)霍爾槽實驗結合生(Sheng)産實[Shi]際情況确定。
2.定期分析基礎成[Cheng]分,控制在工(Gong)藝範[Fan]圍(Wei)内并通過霍爾槽試片進行調[Diao]整。
五(Wu)、故障[Zhang]診斷
1、含量因素影響:
--氯化鋅含量過低:高電位易燒(Shao)焦。
--氯化鋅含量[Liang]過高:鍍層分布不均(Jun)勻。
--氯化鉀[Jia](鈉)含量過低:高電位(Wei)輕微燒焦(Jiao),鍍液分散能力差。
--氯[Lü]化鉀(鈉)含量過高:鍍液濁點降[Jiang]低;溫度低時,鋅(Xin)陽極表[Biao]面容易結晶,使鍍液鋅渣過多,工件易産生毛刺。
--硼酸含量[Liang]過低:鍍層(Ceng)粗糙,PH值變動過快。
--硼酸含量過高:高電位灰色鍍[Du]層,結晶(Jing)粗糙。
--pH值[Zhi]過低:鋅金屬含量(Liang)上升,易溶解基體金屬形成雜[Za]質,引起鍍層不均勻,覆蓋性(Xing)下[Xia]降。
--pH值過(Guo)高:高電位燒焦,鋅金屬含量(Liang)下降,并且形[Xing]成氫(Qing)氧[Yang]化鋅沉澱。
2、雜(Za)志因素[Su]影響:
--銅雜質:通常引起低(Di)電位發黑。
--鐵雜質:高電(Dian)位棕色,鍍層脆性大,通(Tong)常鍍件上的黑(Hei)點、滾筒眼就(Jiu)是[Shi]鐵雜質引[Yin]起的。
特别聲明
此說[Shuo]明書(Shu)内所有提(Ti)議[Yi]或關于本公司産(Chan)品的建議,是以本公司信賴的實驗及資料為基礎。因不能控(Kong)制其他從業者的實際操作(Zuo),故本公司不能保證和負責任何[He]不[Bu]良後果。此(Ci)說[Shuo]明書(Shu)内的[De]所有資料也(Ye)不能用(Yong)為任何侵犯版權的證據。
龍口市華友表面處理材料有限公(Gong)司
2018年(Nian)10月