氯化鉀故障解(Jie)決[Jue]方案_華友表面處理材料有限公(Gong)司

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氯化鉀鍍鋅(Xin)知識

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氯化鉀故障解決方案

來源:admin 發布時間:2018-10-30 次浏覽

産品熱[Re]線丨氯化鉀鍍[Du]鋅[Xin]常(Chang)見故障分析(一)

氯化(Hua)鉀[Jia]鍍[Du]鋅是由最早的(De)無氰氯[Lü]化铵鍍[Du]液發[Fa]展而來的一[Yi]種無铵弱酸(Suan)性光亮鍍鋅工(Gong)藝。

其優點是:

(1)鍍液導電性好,槽(Cao)壓低[Di],節省電能;

(2)鍍層結晶細緻[Zhi]、光亮、平整;

(3)電流(Liu)效率高,沉積速度快;

(4)鍍液分散(San)能力好;

(5)适用于鑄[Zhu]件直接電鍍;

(6)廢水(Shui)處理簡便[Bian],解決了環境污染的問題。因此(Ci),氯化鉀鍍鋅在工業上得到了(Le)廣泛應用(Yong)。

   但(Dan)是,在(Zai)日常生[Sheng]産中難免會(Hui)發生質[Zhi]量故障(Zhang),主要原因在于鍍[Du]液維(Wei)護不力,組分失調或受到(Dao)有害(Hai)雜質幹擾,以及工(Gong)件(Jian)前處理不良。本篇拟就氯(Lü)化鉀鍍鋅中常見故障的[De]産生原因及其處(Chu)理方法進行彙總(Zong)和介紹。

 各種常[Chang]見故(Gu)障的産生[Sheng]原因及其(Qi)處理方法

一[Yi]、鍍層不(Bu)光亮[Liang] :

産生原因:

(1) 鍍[Du]液(Ye)濃度過[Guo]低(即氯化鋅[Xin]、氯[Lü]化[Hua]鉀和硼酸的含量均低(Di));

(2) 光亮劑不足;

(3) pH 過高;

(4) 鍍液[Ye]溫度過(Guo)高[Gao];

(5) 陰極[Ji]電流密度小;

(6) 金屬鐵雜質(Zhi)多;

(7) 有機雜質多。

處理(Li)方法:

(1) 通過分析,補(Bu)加氯化鋅、氯化鉀(Jia)和硼酸(Suan)至[Zhi]工藝規範;

(2) 适當添加光亮(Liang)劑;

(3) 用[Yong]稀鹽酸溶液(Ye)調[Diao]節PH 至工藝規範[Fan];

(4) 降低鍍液溫度至工藝規[Gui]範;

(5) 适當提(Ti)高陰極電流密度[Du];

(6) 加入0.5 ~ 2 mL/L 的雙氧水(w = 30%),充[Chong]分攪[Jiao]拌後,用w = 5% 的氫氧化鈉調節pH 至6.2,沉澱、過濾後可除去氫氧化鐵;

(7) 在(Zai)鍍液溫度為45 °C 時加入1 ~ 3 g/L 活性炭,攪[Jiao]拌約30 min 後過[Guo]濾;或采用高錳酸鉀[Jia]法處理,即先用稀鹽酸調低PH 至[Zhi]3 ~ 4,然後在攪拌的情況[Kuang]下将[Jiang]溶有0.5 ~ 1 g/L 高錳酸[Suan]鉀的熱水均(Jun)勻加入鍍液(Ye)中,再繼續攪[Jiao]拌30 min ,然後靜置[Zhi]過濾,可除去(Qu)有機[Ji]物[Wu]。

 二、發[Fa]霧、發花(Hua):

 産生原因

(1) 鍍液溫(Wen)度過高;氯化鉀鍍鋅故(Gu)障(Zhang)處理

(2) pH 過高;

(3) 槽(Cao)鍍工[Gong]件過多或陽極(Ji)面積不夠;

(4) 氯化鋅(Xin)含量過低;

(5) 金屬銅[Tong]、鉛雜質多;

(6) 光亮劑不足;

(7) 有機雜[Za]質多;

(8) 工件(Jian)基體[Ti]表面(Mian)的(De)前(Qian)處理不良。

 處理[Li]方法

(1) 調低鍍液溫度[Du]至工藝規[Gui]範;

(2) 調[Diao]低PH 至[Zhi]工藝規範;

(3) 适當減少[Shao]工件裝載[Zai]量或增加陽極鋅(Xin)闆面積;

(4) 通過(Guo)分析(Xi),補加氯化鋅至(Zhi)工藝規範;

(5) 采用置[Zhi]換法(添加1 ~ 3 g 純鋅粉)或(Huo)小電流密度電解除去銅、鉛雜質(銅、鉛含量過多還會使(Shi)低電流密度區[Qu]鍍層呈黑色[Se]霧狀);

(6) 适當添加光亮劑;

(7)  在鍍液溫度為45 °C 時[Shi]加入1 ~ 3 g/L 活性炭,攪拌約(Yue)30 min 後過濾;或采用[Yong]高錳酸鉀法處理,即先用稀鹽酸調(Diao)低PH 至3 ~ 4,然後在[Zai]攪拌的情況下将溶有[You]0.5 ~ 1 g/L 高錳酸鉀的熱水均勻加入鍍液中(Zhong),再繼續攪拌30 min ,然後靜置過濾,可[Ke]除去有機物。

三、起泡,結合力差

産生原因:

(1) 鍍液中氯[Lü]化鉀含量[Liang]過高;

(2) pH 過低

(3) 陰極(Ji)電流密度大;

(4) 光亮[Liang]劑過多;

(5) 金屬鐵雜(Za)質多;

(6) 工件基體(Ti)含有(You)矽。

處理方法

(1) 通過分[Fen]析,補加氯化[Hua]鉀至工[Gong]藝規範;

(2) 調(Diao)高pH 至工藝規範[Fan];

(3) 适當降低陰極電(Dian)流[Liu]密度;

(4) 用适[Shi]量的[De]活(Huo)性炭吸附後過濾[Lü];

(5) 加入0.5 ~ 2 mL/L 的雙氧水(w = 30%),充分攪拌後,用w = 5% 的氫[Qing]氧化鈉調節PH 至6.2,沉澱、過濾後(Hou)可除去氫氧化鐵(Tie);

(6) 通過核(He)實,配制(Zhi)含氫氟酸的混合溶液進行酸洗。可采用300 mL/L 濃鹽[Yan]酸 + 20 mL/L 氫氟酸(WHF = 40%)溶液,其中的(De)氫氟酸能溶[Rong]解并去除含矽化合物,使工件基體表面完全活化(Hua)。

四、粗[Cu]糙,燒焦:

産生原因:

(1) 鍍液中氯化鋅(Xin)含量過高(使鍍層[Ceng]粗糙)或過[Guo]低(易燒焦[Jiao]);

(2) 氯化鉀和硼酸含量過低;

(3)PH 過高(使[Shi]鍍(Du)層粗糙)或過低(導緻燒焦);

(4) 光亮(Liang)劑[Ji]不足;

(5) 金(Jin)屬鐵[Tie]、銅雜質多。

 處理方法[Fa]:

(1) 通過分析,調整氯化鋅含量至工藝規(Gui)範;

(2) 補加氯化鉀和[He]硼酸[Suan]至工藝規(Gui)範;

(3) 調節PH 至工藝規範;

(4) 适當添加光亮劑;

(5) 加入0.5 ~ 2 mL/L 的雙氧[Yang]水(w = 30%),充[Chong]分攪拌後,用w = 5% 的氫氧化鈉調節PH 至6.2,沉(Chen)澱、過濾後可除去[Qu]氫氧化鐵;

(6)采用置[Zhi]換法(添加1 ~ 3 g 純鋅粉(Fen))或小電[Dian]流密度電解除去銅、鉛雜質(Zhi)(銅、鉛含量過多(Duo)還會使低電流密(Mi)度區鍍層呈黑色霧狀);

(1) 通過分析[Xi],補加氯化鋅至工藝規範;

(2) 将鍍液pH 調低至工(Gong)藝規範;

(3) 适當添(Tian)加光亮劑;

(4) 降低鍍液溫度至工(Gong)藝規範。

 



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